離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。

陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應用于光學鍍膜并不太多。

考夫曼離子源是應用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。